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Effect on Passivation Mechanism and Properties of HfO₂/crystalline-Si Interface under Different Annealing Atmosphere
不同退火气氛对HfO₂/晶体-Si界面钝化机理及性能的影响
相关领域
钝化 退火（玻璃） 薄脆饼 材料科学 形成气体 载流子寿命 分析化学（期刊） 晶体硅 氧化物 硅 薄膜 光电子学 纳米技术 冶金 图层（电子） 化学 色谱法
网址
http://dx.doi.org/10.1016/j.solmat.2023.112384
DOI
10.1016/j.solmat.2023.112384 doi
求助人
闪闪的硬币 在 2025-08-24 15:12:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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