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标题
Control of hole concentration in sputter-deposited BaSi2 films by B implantation and its application to p-BaSi2/n-Si solar cells
B注入对溅射沉积BaSi2薄膜空穴浓度的控制及其在p-BaSi2/n-Si太阳电池中的应用
相关领域
材料科学 溅射 退火（玻璃） 杂质 分析化学（期刊） 异质结 拉曼光谱 兴奋剂 光致发光 溅射沉积 光电子学 硅 薄膜 纳米技术 冶金 光学 化学 有机化学 物理 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.108296
DOI
10.1016/j.mssp.2024.108296 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Takumi Sato; Sho Aonuki; Haruki Takenaka; Rui Du; Kazuki Kido; et al
出版日期：2024-03-02
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空辰 在 2025-08-20 12:38:10 发布，悬赏 10 积分
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