Thermally Activated Defect Engineering for Highly Stable and Uniform ALD-Amorphous IGZO TFTs with High-Temperature Compatibility

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标题	Thermally Activated Defect Engineering for Highly Stable and Uniform ALD-Amorphous IGZO TFTs with High-Temperature Compatibility 高温相容性高稳定均匀ALD非晶IGZO薄膜晶体管的热激活缺陷工程相关领域材料科学退火（玻璃）无定形固体原子层沉积光电子学阈值电压薄膜晶体管晶体管电压薄膜复合材料纳米技术图层（电子）电气工程结晶学化学工程类
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.3c06517
DOI	10.1021/acsami.3c06517 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Dong-Gyu Kim; Won-Bum Lee; Seung Hee Lee; Jihyun Koh; Bongjin Kuh; et al 出版日期：2023-07-25
求助人	waitamoment 在 2025-09-24 09:12:48 发布自上海，悬赏 10 积分
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