| 标题 |
The effect of Ar plasma etching time on the microstructure, optical and photoelectric properties of CdZnTe films 相关领域
材料科学
微观结构
光电效应
等离子体
蚀刻(微加工)
光电子学
薄膜
等离子体刻蚀
分析化学(期刊)
冶金
复合材料
纳米技术
色谱法
量子力学
化学
图层(电子)
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Surface and Coatings Technology 作者:Yuelu Zhang; Jian Huang; Jijun Zhang; Qun Mou; Yue Shen; et al 出版日期:2016-04-21 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|