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[高分] LPCVD SiO2 Layers Prepared from SiH4 and O2 at 450 °C in a Rapid Thermal Processing Reactor
相关领域
化学气相沉积 快速热处理 材料科学 热的 分析化学（期刊） 矿物学 化学 光电子学 硅 物理 热力学 有机化学
网址
https://doi.org/10.1051/jphyscol:19955118
AI链接 archives-ouvertes.fr hal.science archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.frdoi.org
DOI
10.1051/jphyscol:19955118 doi
其它 期刊：Journal de Physique IV (Proceedings)
作者：C. Cobianu; J. Rem; J.H. Klootwijk; Marcel H.H. Weusthof; J. Holleman; et al
出版日期：1995-06-01
求助人
oli 在 2025-10-28 18:32:12 发布自贵州，悬赏 50 积分
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