LPCVD SiO2 Layers Prepared from SiH4 and O2 at 450 °C in a Rapid Thermal Processing Reactor

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作者
C. Cobianu,J. Rem,J.H. Klootwijk,Marcel H.H. Weusthof,J. Holleman,P.H. Woerlee
出处
期刊:Journal de physique [Springer Science+Business Media]
卷期号:05 (C5): C5-1011 被引量:3
标识
DOI:10.1051/jphyscol:19955118
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