| 标题 |
  Sputtering Process of ScxAl1−xN Thin Films for Ferroelectric Applications 相关领域
溅射
材料科学
基质（水族馆）
表面粗糙度
大气（单位）
Crystal（编程语言）
薄膜
溅射沉积
表面光洁度
沉积（地质）
工程物理
光电子学
纳米技术
复合材料
计算机科学
工程类
物理
古生物学
海洋学
沉积物
生物
热力学
程序设计语言
地质学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Coatings 作者：Jacob Wall; Feng Yan 出版日期：2022-12-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人或该文件上传人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
null
吃葡萄不吐葡萄皮
学霸业
GingerF
Criminology34
Elsevier大王
My_magnum_opus
Chinno
sanvva
deli
华无剑
Nole
lx
v0id
麦咕咕
EeeeW
核桃
荼黎
七听
皖公网安备34019202002308
