Optimizing extreme ultraviolet lithography imaging metrics as a function of absorber thickness and illumination source: a simulation case study of Ta-Co alloy

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标题	Optimizing extreme ultraviolet lithography imaging metrics as a function of absorber thickness and illumination source: a simulation case study of Ta-Co alloy
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.22.3.033201
DOI	10.1117/1.jmm.22.3.033201 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Devesh Thakare; Annelies Delabie; Vicky Philipsen 出版日期：2023-08-07
求助人	俊逸三德在 2026-10-22 16:41:20 发布自上海，悬赏 20 积分
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