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 Bismuth-oxo Clusters for Next Generation Extreme Ultraviolet Light Photolithography 用于下一代极紫外光光刻的铋氧代簇
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期刊：Chemistry of Materials 作者：Harvey K. MacKenzie; Etienne A. LaPierre; Qi Zhang; Oleg Kostko; Harrison K. S. Young; et al 出版日期：2025-11-08 |
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(2025-6-4)
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