| 标题 |
The solution of wetting issues in GaN epitaxy on (111) SCD with magnetron sputtered AlN 磁控溅射AlN(111)SCD上GaN外延润湿问题的解决
相关领域
材料科学
光电子学
润湿
溅射沉积
图层(电子)
成核
溅射
外延
Crystal(编程语言)
复合材料
薄膜
纳米技术
化学
计算机科学
有机化学
程序设计语言
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Alloys and Compounds 作者:Yuan Gao; Xinhao Wang; Shengrui Xu; Jiaduo Zhu; Huake Su; et al 出版日期:2023-10-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)