| 标题 |
Thermal stability and structural characteristics of HfO2 films on Si (100) grown by atomic layer deposition. Applied Physics Letters HfO2薄膜的热稳定性和结构特性。
|
| 网址 | |
| DOI |
暂未提供,该求助的时间将会延长,查看原因?
|
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |