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 Thermal atomic layer etching of SnO2 by fluorination and ligand-exchange/conversion reactions using sequential hydrogen fluoride and Al(CH3)3 exposures 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：C. Li; Jonathan L. Partridge; Troy A. Colleran; Micah H. Duffield; Yong Hyun Ham; et al 出版日期：2026-01-14 |
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