Design-technology co-optimization of sequential and monolithic CFET as enabler of technology node beyond 2nm

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标题	Design-technology co-optimization of sequential and monolithic CFET as enabler of technology node beyond 2nm 相关领域有可能计算机科学节点（物理）工程类心理学结构工程心理治疗师
网址	https://doi.org/10.1117/12.2583395
DOI	10.1117/12.2583395 doi
其它	期刊：Design-Process-Technology Co-optimization XV 作者：Bilal Chehab; Julien Ryckaert; Pieter Schuddinck; Pieter Weckx; Naoto Horiguchi; et al 出版日期：2021
求助人	阳佟亦旋在 2021-11-05 10:28:28 发布，悬赏 10 积分
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