Photomask and Next Generation Lithography Mask Technology XI

已关闭

文献求助详情

系统提示

该文献链接来自researchgate，该网站是索引库，类似于搜索引擎，其准确性不能保证。此类网址会大大拖延应助，为了快速获取到文献，请核实文献信息的准确性，建议填写原始官方链接，特殊情况请在备注中说明。管理员会对该类求助适时进行关闭。

提醒：由于doi是数字文件的唯一标识，应助人将优先使用doi进行应助

标题	Photomask and Next Generation Lithography Mask Technology XI 相关领域光掩模平版印刷术无光罩微影下一代光刻计算机科学材料科学光学纳米技术光电子学物理电子束光刻抵抗图层（电子）
网址	https://www.researchgate.net/publication/234996385_Photomask... AI链接 harvard.edu
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
求助人	hashimha10 在 2022-11-17 16:33:52 发布自苏丹，悬赏 10 积分
下载
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

上个求助

求助 / 应助时间线

1年前，求助关闭

科研通管家机器人关闭了本次求助。

说明求助超时（查看超时原因）自动关闭，请核实信息是否正确，如果确实需要，您可重新发布求助。【积分已退回】
1年前

hashimha10 求助人 Lv5 发起了本次求助

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 论文查重

更新

大幅提高文件上传限制，最高150M (2024-4-1)

更新

新增期刊收藏功能 (2024-03-23)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: 公冶水香发布了新的文献求助10

刚刚; 赘婿的应助被odell采纳，获得30

2秒前; 老实丹秋完成签到，获得积分20

4秒前; 科目三上传了应助文件

5秒前; icepuff发布了新的文献求助10

6秒前; 你说发布了新的文献求助10

10秒前; 科研通管家关闭了你说的文献求助

10秒前; bkagyin的应助被林夕采纳，获得10

12秒前; Leemyaaa完成签到，获得积分10

12秒前; De_Frank123发布了新的文献求助30

12秒前; 华仔上传了应助文件

12秒前; SOLOMON上传了应助文件

13秒前; 科研通AI2.0上传了应助文件

14秒前; fsznc1完成签到，获得积分10

17秒前; shinysparrow的应助被咚咚采纳，获得10

17秒前; ZHOUYING完成签到，获得积分10

17秒前; 19919关注了科研通微信公众号

18秒前; xyzlancet发布了新的文献求助10

19秒前; 酷炫的小紫完成签到，获得积分10

20秒前; 朴素便当的应助被852采纳，获得30

24秒前; 辛勤的剑完成签到，获得积分10

25秒前; 合适的不言上传了应助文件

28秒前; 传奇3的应助被无奈钢笔采纳，获得10

29秒前; orixero上传了应助文件

31秒前; 菲菲爱学习发布了新的文献求助10

32秒前; 辛勤的剑发布了新的文献求助50

34秒前; 鲁路修完成签到，获得积分10

36秒前; 巴拉巴拉巴拉发布了新的文献求助30

38秒前; swhflmz的应助被科研通管家采纳，获得30

38秒前; orixero的应助被科研通管家采纳，获得10

38秒前; 在水一方的应助被科研通管家采纳，获得50

38秒前; CodeCraft的应助被科研通管家采纳，获得10

38秒前; 小蘑菇的应助被科研通管家采纳，获得10

38秒前; 科研通AI2.0上传了应助文件

39秒前; bkagyin上传了应助文件

40秒前; 小二郎的应助被finerain7采纳，获得10

41秒前; 田様上传了应助文件

41秒前; 康康康发布了新的文献求助30

41秒前; yanhan2009完成签到，获得积分10

41秒前; 瓶子发布了新的文献求助10

42秒前