Aberration budget analysis of EUV lithography from the imaging performance of a contact layer in a 5 nm technology node

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标题	Aberration budget analysis of EUV lithography from the imaging performance of a contact layer in a 5 nm technology node
网址	https://doi.org/10.1364/ao.496461
DOI	10.1364/ao.496461 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Zhishu Chen; Lisong Dong; Huwen Ding; Yayi Wei 出版日期：2023-09-05
求助人	lyz 在 2026-07-05 00:49:42 发布自广东，悬赏 10 积分
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