Sub-10 nm electron beam lithography using cold development of poly(methylmethacrylate)

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标题	Sub-10 nm electron beam lithography using cold development of poly(methylmethacrylate)
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/22/4/1711/8207605/1...
DOI	10.1116/1.1763897 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Wenchuang (Walter) Hu; Koshala Sarveswaran; Marya Lieberman; Gary H. Bernstein 出版日期：2004-08-24
求助人	xx 在 2026-06-15 17:04:20 发布自湖北，悬赏 10 积分
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