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标题
Towards a Low-Disorder pFET Gate Stack for Monolayer WSe2 Channels
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11353461/11353475/113537...
DOI
10.1109/iedm50572.2025.11353700 doi
其它 期刊：International Electron Devices Meeting
作者：T. D. Ngo; G. Arutchelvan; S. Chou; Z. Lin; R. K. Grubbs; et al
出版日期：2025-12-06
求助人
Murmansk 在 2026-09-11 13:50:27 发布自江苏，悬赏 10 积分
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  • 6小时前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

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  • 6小时前

    Murmansk Murmansk Lv55 求助人 发起了本次求助

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