Ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 thin-film-based ferroelectric tunnel junction via stress induced crystallization

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标题	Ultra-thin Hf0.5Zr0.5O2 thin-film-based ferroelectric tunnel junction via stress induced crystallization
网址	http://dx.doi.org/10.1063/5.0029516
DOI	10.1063/5.0029516 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Youngin Goh; Junghyeon Hwang; Yongsun Lee; Minki Kim; Sanghun Jeon 出版日期：2020-12-14
求助人	知行在 2026-06-28 15:22:02 发布自河北，悬赏 10 积分
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