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 Ketocoumarin-Based Photoinitiators for High-Sensitivity Two-Photon Lithography 用于高灵敏度双光子光刻的酮香豆素基光引发剂
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期刊：ACS applied polymer materials 作者：Jin Tang; Xiaoyi Xu; Xiaoming Shen; Cuifang Kuang; Hongzheng Chen; et al 出版日期：2023-03-20 |
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