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标题
Study of wet and dry etching processes for antimonide-based photonic ICs
锑化物基光子IC湿法和干法刻蚀工艺研究
相关领域
材料科学 干法蚀刻 锑 光电子学 蚀刻（微加工） 腐蚀坑密度 表面粗糙度 钝化 各向同性腐蚀 制作 基质（水族馆） 表面光洁度 感应耦合等离子体 湿法清洗 反应离子刻蚀 纳米技术 等离子体 图层（电子） 复合材料 替代医学 海洋学 病理 地质学 物理 生物 医学 量子力学 生态学
网址
https://doi.org/10.1364/ome.9.001786
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.1364/ome.9.001786 doi
其它 期刊：Optical Materials Express
作者：Shamsul Arafin; Anthony McFadden; Banaful Paul; Syed M. N. Hasan; James A. Gupta; et al
出版日期：2019-03-18
求助人
HY 在 2025-06-19 11:27:05 发布自安徽，悬赏 10 积分
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