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标题
Fast simulation methods and modeling for extreme ultraviolet masks with buried defects
埋藏缺陷极紫外掩模的快速模拟方法与建模
相关领域
极紫外光刻 极端紫外线 光线追踪（物理） 光学（聚焦） 时域有限差分法 平版印刷术 计算机科学 计算 光学 抵抗 材料科学 紫外线 计算物理学 算法 纳米技术 物理 激光器 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/1.3152372
DOI
10.1117/1.3152372 doi
其它 期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS
作者：Chris Clifford
出版日期：2009-07-01
求助人
文艺Chelsey 在 2025-06-15 15:13:40 发布自吉林，悬赏 20 积分
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