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标题
The Influence of Bias Voltage on the Structure and Properties of TiZrNbMo Coating Deposited by Magnetron Sputtering
偏压对磁控溅射TiZrNbMo涂层结构和性能的影响
相关领域
涂层 材料科学 偏压 腔磁控管 溅射沉积 高功率脉冲磁控溅射 溅射 光电子学 电压 复合材料 薄膜 纳米技术 电气工程 工程类
网址
https://doi.org/10.3390/coatings14070844
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.3390/coatings14070844 doi
其它 期刊：Coatings
作者：S.P. Romaniuk; Katarzyna Nowakowska‐Langier; Grzegorz W. Strzelecki; K. Mulewska; R. Minikayev
出版日期：2024-07-05
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拼搏夜白 在 2025-06-09 02:34:42 发布，悬赏 10 积分
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