Atomistic mechanism of AlCu thin film alloy growth on trenched Si substrate

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标题	Atomistic mechanism of AlCu thin film alloy growth on trenched Si substrate 沟槽Si衬底上AlCu薄膜合金生长的原子机制相关领域材料科学沟槽薄膜基质（水族馆）表面光洁度表面能表面粗糙度 Atom（片上系统）复合材料凝聚态物理纳米技术图层（电子）海洋学物理地质学计算机科学嵌入式系统
网址	https://doi.org/10.1016/j.commatsci.2023.112681
DOI	10.1016/j.commatsci.2023.112681 doi
其它	期刊：Computational Materials Science 作者：M. Lablali; Hassane Mes-Αdi; Adil Eddiai; M. Mazroui 出版日期：2023-11-28
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