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 Interfacial properties of 2D WS2 on SiO2 substrate from X-ray photoelectron spectroscopy and first-principles calculations 基于X射线光电子能谱和第一性原理计算的二维WS2在SiO2衬底上的界面性质
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期刊：Frontiers of Physics 作者：Changjie Zhou; Huili Zhu; Weifeng Yang; Qiubao Lin; Tongchang Zheng; et al 出版日期：2022-06-30 |
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