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 On direct-current magnetron sputtering at industrial conditions with high ionization fraction of sputtered species 工业条件下高电离率直流磁控溅射
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期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Jaroslav Hnilica; Peter Klein; M. Učík; Stanislava Debnárová; J. Klusoň; et al 出版日期：2024-06-19 |
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