Photoresists for 193-nm lithography

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标题	Photoresists for 193-nm lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1147/rd.411.0095
DOI	10.1147/rd.411.0095 doi
其它	期刊：IBM Journal of Research and Development 作者：R. D. Allen; G. M. Wallraff; D. C. Hofer; R. R. Kunz 出版日期：1997-01-01
求助人	111 在 2026-10-05 20:52:48 发布自江苏，悬赏 10 积分
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