Understanding the role of buried interface charges in a metal-oxide-semiconductor stack of Ti/Al2O3/Si using hard x-ray photoelectron spectroscopy

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标题	Understanding the role of buried interface charges in a metal-oxide-semiconductor stack of Ti/Al2O3/Si using hard x-ray photoelectron spectroscopy
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.4919448
DOI	10.1063/1.4919448 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：J. R. Church; C. Weiland; R. L. Opila 出版日期：2015-04-27
求助人	旅客在 2026-10-10 11:25:27 发布自四川，悬赏 10 积分
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