Plasma damage-free in situ etching of β-Ga2O3 using solid-source gallium in the LPCVD system

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标题	Plasma damage-free in situ etching of β-Ga2O3 using solid-source gallium in the LPCVD system
网址	https://doi.org/10.1063/5.0277909
DOI	10.1063/5.0277909 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Saleh Ahmed Khan; Ahmed Ibreljic; A F M Anhar Uddin Bhuiyan 出版日期：2025
求助人	STP顶峰相见在 2026-04-14 14:55:35 发布自北京，悬赏 10 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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