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标题
TCAD Optimisation of 4H-SiC Channel-Doped MOSFET with P-Polysilicon Gate
网址
https://www.scientific.net/MSF.389-393.1085.pdf
DOI
10.4028/www.scientific.net/msf.389-393.1085 doi
其它 期刊：Materials Science Forum
作者：Kazuhiro Adachi; C. Mark Johnson; Kazuo Arai; Kenji Fukuda; Shinsuke Harada; Takashi Shinohe
出版日期：2009-03-12
求助人
研友_8oYMyn 在 2026-04-23 15:12:07 发布自广东，悬赏 30 积分
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