Enhancing the Plasma-Resistance Properties of Li2O–Al2O3–SiO2 Glasses for the Semiconductor Etch Process via Alkaline Earth Oxide Incorporation

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标题	Enhancing the Plasma-Resistance Properties of Li2O–Al2O3–SiO2 Glasses for the Semiconductor Etch Process via Alkaline Earth Oxide Incorporation
网址	https://doi.org/10.3390/ma16145112
DOI	10.3390/ma16145112 doi
其它	期刊：Materials 作者：So-Won Kim; Hwan-Seok Lee; Deok-Sung Jun; Seong-Eui Lee; Joung-Ho Lee; Hee-Chul Lee 出版日期：2023
求助人	厉害的猫在 2026-03-17 20:08:39 发布自广西，悬赏 10 积分
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