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 Effects of acid diffusion and resist molecular size on line edge roughness for chemically amplified resists in EUV lithography: computational study 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Masanori Koyama; Kyohei Imai; Masamitsu Shirai; Yoshihiko Hirai; Masaaki Yasuda 出版日期：2021-09-15 |
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