Engineering Carrier Density and Effective Mass of Plasmonic TiN Films by Tailoring Nitrogen Vacancies

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标题	Engineering Carrier Density and Effective Mass of Plasmonic TiN Films by Tailoring Nitrogen Vacancies 相关领域锡材料科学氮气等离子体子纳米技术有效质量（弹簧-质量系统）工程物理光电子学化学冶金物理量子力学有机化学
网址	https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.4c03534
DOI	10.1021/acs.nanolett.4c03534 doi
其它	期刊：Nano Letters 作者：Shunda Zhang; Tianyu Sun; Zhen Wang; Ruyi Zhang; Lin Yu; et al 出版日期：2024-09-24
求助人	tiny_face 在 2026-03-15 16:00:09 发布自上海，悬赏 10 积分
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