Linewidth asymmetry study to predict aberration in lithographic lenses

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标题	Linewidth asymmetry study to predict aberration in lithographic lenses 相关领域泽尼克多项式激光线宽彗差（光学）光学平版印刷术抵抗干涉测量球差点扩散函数不对称计算机科学材料科学光刻物理波前镜头（地质）纳米技术量子力学激光器图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.435664
DOI	10.1117/12.435664 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Jongwook Kye; Mircea Dusa; Harry Levinson 出版日期：2001-09-14
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International Society for Optics and Photonics (SPIE)

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