| 标题 |
Dual Locking of Cu+/Cu0 Interface and Vacancy Defects via Al‐Doping for Efficient Electroreduction of CO2 to C2+ Products 相关领域
法拉第效率
催化作用
材料科学
掺杂剂
铜
溶解
密度泛函理论
电化学
异质结
空位缺陷
过渡金属
拉曼光谱
兴奋剂
无机化学
化学工程
物理化学
化学
结晶学
电极
计算化学
光电子学
生物化学
物理
光学
冶金
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Small Methods 作者:Wenqing Zhang; Chunhao Jiang; Shulin Zhao; Qianqian Zhao; Yuzhou Wang; et al 出版日期:2025-10-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|