| 标题 |
  A Review: Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Silicon Carbide 碳化硅的电感耦合等离子体反应离子刻蚀研究进展
相关领域
反应离子刻蚀
蚀刻（微加工）
材料科学
感应耦合等离子体
碳化硅
干法蚀刻
光电子学
等离子体刻蚀
纳米技术
半导体
硅
等离子体
冶金
物理
图层（电子）
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials 作者：K. Racka-Szmidt; Bartłomiej Stonio; J. Żelazko; Maciej Filipiak; Mariusz Sochacki 出版日期：2021-12-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
Enigma_GEB
秋风
Kao
老的火龙果
DW
苹果老太
嘻嘻哈哈
aajhajkahna
谢雷XIELei
无极微光
grassland
极限001
拆迁办禁言
76ers
GingerF
XX
渡人舟
Lingeek
科研狗
皖公网安备34019202002308
