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 Reduction of plasma induced damage in an inductively coupled plasma using pulsed source power 利用脉冲源功率减少电感耦合等离子体中的等离子体诱导损伤
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等离子体
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Seiji Samukawa; Ko Noguchi; Jennifer Colonell; K. H. A. Bogart; M. V. Malyshev; et al 出版日期：2000-03-01 |
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