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标题
Reduction of plasma induced damage in an inductively coupled plasma using pulsed source power
利用脉冲源功率减少电感耦合等离子体中的等离子体诱导损伤
相关领域
等离子体 感应耦合等离子体 材料科学 光电子学 射频功率传输 晶体管 等离子体刻蚀 无线电频率 射频功率放大器 蚀刻（微加工） 连续波 变压器 电压 光学 CMOS芯片 电气工程 激光器 纳米技术 物理 工程类 放大器 量子力学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1116/1.591283
DOI
10.1116/1.591283 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
作者：Seiji Samukawa; Ko Noguchi; Jennifer Colonell; K. H. A. Bogart; M. V. Malyshev; et al
出版日期：2000-03-01
求助人
zz 在 2025-11-12 09:12:27 发布自伊朗，悬赏 10 积分
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