| 标题 |
 Thin film metallization by magnetron sputtering from highly pure molybdenum targets 相关领域
钼
材料科学
溅射沉积
冶金
溅射
微晶
薄膜
电阻率和电导率
腔磁控管
纳米技术
电气工程
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：V.G. Glebovsky; E. A. MARKARYANS 出版日期：1993-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
浮游
Criminology34
asdfzxcv
无极微光
Twonej
专注的问寒
小乔
香蕉诗蕊
彭于彦祖
zgrmws
niNe3YUE
lsl
Jared
进击的PhD
芳菲依旧
eric888
tuanheqi
子车茗
BowieHuang
快乐滑板
个性的紫菜
ccm
spc68
sxb10101
皖公网安备34019202002308
