Thin film metallization by magnetron sputtering from highly pure molybdenum targets

材料科学 溅射沉积 冶金 溅射 微晶 薄膜 电阻率和电导率 腔磁控管 纳米技术 电气工程 工程类
作者
V.G. Glebovsky,E. A. MARKARYANS
出处
期刊:Journal of Alloys and Compounds [Elsevier]
卷期号:190 (2): 157-160 被引量:16
标识
DOI:10.1016/0925-8388(93)90392-z
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