| 标题 |
Assessment of Trap Sensitivity in Dual Material Gate Nano-Ribbon FET for Different Gate Dielectric Materials 不同栅介质材料的双材料栅纳米带场效应晶体管陷阱灵敏度的评估
相关领域
材料科学
灵敏度(控制系统)
电介质
存水弯(水管)
光电子学
纳米-
丝带
栅极电介质
对偶(语法数字)
纳米技术
复合材料
电气工程
电子工程
晶体管
工程类
电压
艺术
文学类
环境工程
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者:Rajesh Saha; Shashank Rai; Brinda Bhowmick 出版日期:2024-12-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)