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 Damage to OSG low‐k films during IPVD deposition of the Ta barrier layer 相关领域
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期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：A.O. Serov; A. N. Ryabinkin; Alexey S. Vishnevskiy; Sergej Naumov; A. F. Pal’; et al 出版日期：2022-12-22 |
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