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 A First-Principles Mechanistic Study of Thermal Selective Etching of SiGe and Si with Fluorine-Containing Etchants 相关领域
蚀刻（微加工）
氟
材料科学
热的
硅
工程物理
纳米技术
光电子学
化学工程
冶金
工程类
物理
气象学
图层（电子）
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| 其它 |
期刊：Journal of Physical Chemistry C 作者：Yihan Huang; Manu Mathur 出版日期：2025-06-27 |
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(2025-6-4)
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