Reliability optimization of dopant-free TFET performance through advanced metal layer techniques

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标题	Reliability optimization of dopant-free TFET performance through advanced metal layer techniques 相关领域可靠性（半导体）掺杂剂图层（电子）材料科学可靠性工程光电子学计算机科学兴奋剂工程类纳米技术物理量子力学功率（物理）
网址	https://doi.org/10.1016/j.microrel.2024.115542
DOI	10.1016/j.microrel.2024.115542 doi
其它	期刊：Microelectronics Reliability 作者：Bandi Venkata Chandan; M. Bakshi; Kaushal Nigam 出版日期：2024-11-12
求助人	Camellia 在 2026-01-05 20:56:06 发布自陕西，悬赏 20 积分
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