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标题
Stress analysis and characterization of TEOS-based PECVD fabricated SiO2 solid films after thermal annealing
TEOS基PECVD制备SiO2固体薄膜热退火后的应力分析与表征
网址
DOI
10.1088/1361-6641/ae0516 doi
求助人
已黑化发文儿可洗白 在 2025-12-03 15:25:37 发布自天津,悬赏 10 积分
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