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标题
Work function and thermal stability of Ti1−xAlxNy for dual metal gate electrodes
双金属栅电极Ti1-xAlxNy的功函数和热稳定性
相关领域
材料科学 NMOS逻辑 热稳定性 工作职能 PMOS逻辑 电极 分析化学（期刊） 蚀刻（微加工） 光电子学 金属浇口 金属 栅氧化层 冶金 纳米技术 晶体管 电气工程 电压 化学工程 化学 物理化学 工程类 色谱法 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1063/1.1523651
DOI
10.1063/1.1523651 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Tae-Ho Cha; Dae-Gyu Park; Tae-Kyun Kim; Se‐Aug Jang; In‐Seok Yeo; et al
出版日期：2002-11-21
求助人
PP 在 2025-12-09 14:59:08 发布自安徽，悬赏 10 积分
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