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 Mesh Bias Controlled Synthesis of TiO2 and Al0.74Ti0.26O3 Thin Films by Mist Chemical Vapor Deposition and Applications as Gate Dielectric Layers for Field-Effect Transistors 栅偏压控制雾化学气相沉积TiO2和Al0.74Ti 0.26 O3薄膜及其作为场效应晶体管栅介质层的应用
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雾
化学气相沉积
材料科学
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期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Kojun Yokoyama; Abdul Kuddus; Faruk Hossain; Hajime Shirai 出版日期：2022-05-03 |
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