| 标题 |
Impact of metal silicide nanocrystals on the resistance ratio in resistive switching of epitaxial Fe3O4 films on Si substrates 金属硅化物纳米晶对硅衬底外延Fe3O4薄膜电阻开关中电阻比的影响
相关领域
材料科学
纳米晶
外延
硅化物
电场
纳米技术
光电子学
电阻和电导
薄膜
纳米材料
电阻式触摸屏
硅
图层(电子)
复合材料
电气工程
物理
工程类
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Takafumi Ishibe; Yuto Uematsu; Nobuyasu Naruse; Yutaka Mera; Yoshiaki Nakamura 出版日期:2020-05-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)