| 标题 |
Operational Verification of Gate Drive Circuit With Condition Monitoring Function for Gate Oxide Degradation of SiC MOSFETs 具有对SiOMSFT栅氧化层退化状态监测功能的栅驱动电路的运行验证
相关领域
栅氧化层
MOSFET
门驱动器
材料科学
随时间变化的栅氧化层击穿
等效门电路
金属浇口
电气工程
晶体管
逻辑门
电子线路
光电子学
和大门
功率MOSFET
碳化硅
与非门
电子工程
电压
工程类
冶金
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Open Journal of Power Electronics 作者:S. Hayashi; Keiji Wãda 出版日期:2024-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)