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Performance Enhancement of a-IGZO TFTs With Elevated Source/Drain Structure via Channel Trench Etching 相关领域
材料科学
性能增强
蚀刻(微加工)
光电子学
沟槽
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绩效改进
电子工程
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硅
干法蚀刻
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Hongseung Lee; Jaewook Yoo; Seongbin Lim; Sojin Jung; Minah Park; et al 出版日期:2026-01-01 |
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