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Comparison of plasma doping and beamline technologies for low energy ion implantation
等离子体掺杂与光束线低能离子注入技术的比较
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期刊:Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on 作者:A. Renau; J.T. Scheuer 出版日期:2004-03-22 |
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