A Novel Nanoimprint Lithography Thiol-ene Resist for Sub-70 nm Nanostructures

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标题	[高分] A Novel Nanoimprint Lithography Thiol-ene Resist for Sub-70 nm Nanostructures 一种用于亚70nm纳米结构的新型纳米压印光刻硫醇——烯抗蚀剂相关领域材料科学纳米压印光刻抵抗聚合纳米技术纳米结构平版印刷术共聚物聚合物复合材料光电子学制作医学病理替代医学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1166/sam.2020.3721
DOI	10.1166/sam.2020.3721 doi
其它	期刊：Science of Advanced Materials 作者：Man Zhang; Liangping Xia; Suihu Dang; Axiu Cao; Qiling Deng; et al 出版日期：2020-06-01
求助人	车小宇在 2024-03-13 10:26:02 发布自安徽，悬赏 150 积分
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